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低溫凈化冶金硅工藝探討

低溫凈化冶金硅工藝探討

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級(jí)別:| 積分:0 分 | 瀏覽:78880 | 大。17.50KB | 下載:4374 次 | 上傳:2013-12-30

簡(jiǎn)介:

本文主要針對(duì)熔析體系選擇原則進(jìn)行分析,對(duì)錫、鋁等金屬作為熔析介質(zhì)進(jìn)行篩選,對(duì)于Sn-Si體系,在1500K時(shí)的硼分凝系數(shù)為0.038,小于純硅熔點(diǎn)0.8。硼的質(zhì)量分?jǐn)?shù)在冶金硅二次熔析凈化處理時(shí)可以由15×10-6降至0.1×10-6,一般情況下,其它雜質(zhì)都可以一次性去除到0.1×10-6以下。

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